對于《Microsystems & Nanoengineering》雜志論文中的錯誤，需要根據(jù)錯誤的嚴(yán)重程度和論文的發(fā)表階段（如投稿中、審稿中、已在線發(fā)表）采取不同的更正措施。

以下是《Microsystems & Nanoengineering》雜志詳細(xì)的錯誤申請更正流程：

（1）投稿前發(fā)現(xiàn)錯誤：可以直接修改稿件并重新上傳至投稿系統(tǒng)。

（2）審稿階段發(fā)現(xiàn)錯誤：小錯誤（如拼寫、排版問題），可以在返修時一并修正；重大錯誤（如數(shù)據(jù)錯誤、結(jié)論錯誤），應(yīng)主動向雜志社說明，并提供修正后的版本。

（3）論文已在線發(fā)表：部分期刊允許在正式出版前進(jìn)行小幅修改，尤其是排版或非關(guān)鍵數(shù)據(jù)的錯誤，需盡快聯(lián)系雜志社，說明錯誤情況，并提交更正請求。

如何降低《Microsystems & Nanoengineering》雜志論文錯誤的影響？

主動聯(lián)系引用者：若錯誤可能誤導(dǎo)其他研究者，可聯(lián)系引用該論文的作者，告知更正信息。

發(fā)表更正論文：如果錯誤極其嚴(yán)重，可撰寫一篇新論文進(jìn)行更正或補充。

反思與改進(jìn)：分析錯誤原因，避免重復(fù)。

《Microsystems & Nanoengineering》雜志是由2015年創(chuàng)刊的專注于Materials Science - Materials Science (miscellaneous)領(lǐng)域的專業(yè)學(xué)術(shù)期刊。該雜志的最新影響因子：7.3，在中科院分區(qū)表中，其大類學(xué)科：工程技術(shù)，位于：1區(qū)，小類學(xué)科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION儀器儀表，位于：1區(qū)；同時在JCR分區(qū)中處于Q1區(qū)，顯示了其在學(xué)術(shù)領(lǐng)域的卓越地位，要求內(nèi)容前沿、易讀適用于工程技術(shù)領(lǐng)域研究人員參考。

《Microsystems & Nanoengineering》雜志被SCIE知名數(shù)據(jù)庫收錄，這確保了其研究成果的廣泛傳播。此外，該期刊Gold OA文章占比為：100.00%，這進(jìn)一步促進(jìn)了學(xué)術(shù)成果的共享與交流。

該雜志審稿周期預(yù)計為： 20 Weeks 。

《Microsystems & Nanoengineering》雜志社聯(lián)系方式

出版商：CAMPUS, 4 CRINAN ST, LONDON, ENGLAND, N1 9XW

出版地區(qū)：United Kingdom

出版周期：1 issue/year

語言：English