《Physics Of Plasmas》雜志是一本專注于物理與天體物理領(lǐng)域的高質(zhì)量期刊，該雜志的錄用率受多種因素影響，想具體了解可聯(lián)系雜志社或咨詢在線客服。

《Physics Of Plasmas》雜志的錄用率受多種因素影響，具體如下：

年發(fā)文量：《Physics Of Plasmas》雜志年發(fā)文量為：769篇。年發(fā)文量較大的期刊，相對(duì)而言錄用率會(huì)高一些。

質(zhì)量與創(chuàng)新性：論文的科學(xué)性、嚴(yán)謹(jǐn)性、數(shù)據(jù)可靠性以及創(chuàng)新性是關(guān)鍵。

期刊分區(qū)：《Physics Of Plasmas》雜志在中科院的分區(qū)為3區(qū)，而在JCR的分區(qū)為Q3。

論文質(zhì)量：包括研究設(shè)計(jì)的合理性、數(shù)據(jù)的可靠性、分析方法的科學(xué)性等。

影響力與排名：《Physics Of Plasmas》雜志IF影響因子為：2。高影響力的期刊通常對(duì)論文質(zhì)量要求更高，錄用率相對(duì)較低。

審稿流程：嚴(yán)格的多輪審稿流程會(huì)篩選掉部分稿件，導(dǎo)致錄用率下降。

投稿數(shù)量：在特定時(shí)期內(nèi)，若大量研究者集中向某期刊投稿，會(huì)導(dǎo)致稿件堆積，錄用率下降。

SCI期刊的錄用率受多重因素影響，作者應(yīng)根據(jù)自身研究特點(diǎn)選擇合適的期刊，并確保稿件質(zhì)量以提高錄用機(jī)會(huì)，投稿前務(wù)必仔細(xì)閱讀期刊的投稿指南，并與雜志社保持良好溝通。

《Physics Of Plasmas》雜志簡介

中文簡稱：等離子體物理學(xué)
國際標(biāo)準(zhǔn)簡稱：PHYS PLASMAS
出版商：American Institute of Physics
出版周期：Monthly
出版年份：1994年
出版地區(qū)：UNITED STATES
ISSN：1070-664X
ESSN：1089-7674
研究方向：物理 - 物理：流體與等離子體

《等離子體物理學(xué)》（PoP）由 AIP 出版社與 APS 等離子體物理學(xué)分部合作出版，致力于發(fā)表實(shí)驗(yàn)和理論等離子體物理學(xué)各個(gè)領(lǐng)域的原創(chuàng)研究。PoP 出版全面而深入的評(píng)論手稿，涵蓋重要的研究領(lǐng)域和專題，重點(diǎn)介紹等離子體物理學(xué)的最新和前沿發(fā)展。每年都會(huì)有一期特刊發(fā)表 APS 等離子體物理學(xué)分部最近一次會(huì)議的特邀論文和評(píng)論論文。 PoP 涵蓋了這一動(dòng)態(tài)領(lǐng)域的廣泛重要研究，包括：

-基本等離子體現(xiàn)象、波、不穩(wěn)定性

-非線性現(xiàn)象、湍流、傳輸

-磁約束等離子體、加熱、約束

-慣性約束等離子體、高能量密度等離子體科學(xué)、熱致密物質(zhì)

-電離層、太陽系和天體物理等離子體

-激光器、粒子束、加速器、輻射產(chǎn)生

-輻射發(fā)射、吸收和傳輸

-低溫等離子體、等離子體應(yīng)用、等離子體源、鞘層

-塵埃等離子體

在中科院分區(qū)表中，大類學(xué)科為物理與天體物理3區(qū)， 小類學(xué)科為PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS物理：流體與等離子體3區(qū)。

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