《Journal Of Vacuum Science & Technology A》雜志的收稿范圍和要求是什么？
來源：優(yōu)發(fā)表網(wǎng)整理 2024-09-18 11:01:44 1241人看過
《Journal Of Vacuum Science & Technology A》雜志收稿范圍涵蓋材料科學(xué)全領(lǐng)域，此刊是該細(xì)分領(lǐng)域中屬于非常不錯(cuò)的SCI期刊，在行業(yè)細(xì)分領(lǐng)域中學(xué)術(shù)影響力較大，專業(yè)度認(rèn)可很高，所以對(duì)原創(chuàng)文章要求創(chuàng)新性較高，如果您的文章質(zhì)量很高，可以嘗試。
平均審稿速度 一般,3-6周 ，影響因子指數(shù)2.4。
該期刊近期沒有被列入國(guó)際期刊預(yù)警名單，廣大學(xué)者值得一試。
具體收稿要求需聯(lián)系雜志社或者咨詢本站客服，在線客服團(tuán)隊(duì)會(huì)及時(shí)為您答疑解惑，提供針對(duì)性的建議和解決方案。
出版商聯(lián)系方式：A V S AMER INST PHYSICS, STE 1 NO 1, 2 HUNTINGTON QUADRANGLE, MELVILLE, USA, NY, 11747-4502
其他數(shù)據(jù)
| 是否OA開放訪問： | h-index： | 年文章數(shù)： |
| 未開放 | 100 | 333 |
| Gold OA文章占比： | 2021-2022最新影響因子（數(shù)據(jù)來源于搜索引擎）: | 開源占比（OA被引用占比）： |
| 27.03% | 2.4 | 0.27... |
| 研究類文章占比：文章 ÷（文章 + 綜述） | 期刊收錄： | 中科院《國(guó)際期刊預(yù)警名單（試行）》名單： |
| 97.60% | SCIE | 否 |
歷年IF值(影響因子)：
歷年引文指標(biāo)和發(fā)文量：
歷年中科院JCR大類分區(qū)數(shù)據(jù)：
歷年自引數(shù)據(jù)：
發(fā)文統(tǒng)計(jì)
2023-2024國(guó)家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計(jì)：
| 國(guó)家/地區(qū) | 數(shù)量 |
| USA | 368 |
| Japan | 77 |
| GERMANY (FED REP GER) | 61 |
| South Korea | 56 |
| France | 44 |
| Sweden | 33 |
| CHINA MAINLAND | 31 |
| England | 29 |
| Finland | 26 |
| Netherlands | 26 |
2023-2024機(jī)構(gòu)發(fā)文量統(tǒng)計(jì)：
| 機(jī)構(gòu) | 數(shù)量 |
| UNITED STATES DEPARTMENT OF ENER... | 58 |
| CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE ... | 30 |
| UNITED STATES DEPARTMENT OF DEFE... | 26 |
| LINKOPING UNIVERSITY | 25 |
| UNIVERSITY OF ILLINOIS SYSTEM | 24 |
| UNIVERSITY OF CALIFORNIA SYSTEM | 20 |
| CEA | 18 |
| UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM | 17 |
| UNIVERSITY SYSTEM OF MARYLAND | 17 |
| LAM RESEARCH CORPORATION | 16 |
近年引用統(tǒng)計(jì)：
| 期刊名稱 | 數(shù)量 |
| J VAC SCI TECHNOL A | 658 |
| J APPL PHYS | 549 |
| APPL PHYS LETT | 448 |
| THIN SOLID FILMS | 363 |
| PHYS REV B | 338 |
| SURF COAT TECH | 277 |
| CHEM MATER | 221 |
| APPL SURF SCI | 202 |
| J ELECTROCHEM SOC | 168 |
| J VAC SCI TECHNOL B | 141 |
近年被引用統(tǒng)計(jì)：
| 期刊名稱 | 數(shù)量 |
| J VAC SCI TECHNOL A | 658 |
| THIN SOLID FILMS | 321 |
| SURF COAT TECH | 303 |
| APPL SURF SCI | 280 |
| JPN J APPL PHYS | 253 |
| J APPL PHYS | 217 |
| J PHYS CHEM C | 201 |
| VACUUM | 185 |
| CHEM MATER | 155 |
| ACS APPL MATER INTER | 149 |
近年文章引用統(tǒng)計(jì)：
| 文章名稱 | 數(shù)量 |
| Review Article: Stress in thin f... | 72 |
| Status and prospects of plasma-a... | 26 |
| Practical guides for x-ray photo... | 23 |
| Functional model for analysis of... | 19 |
| Review Article: Catalysts design... | 16 |
| Paradigm shift in thin-film grow... | 14 |
| Review Article: Atomic layer dep... | 14 |
| Atomic layer deposition of silic... | 13 |
| Review Article: Crystal alignmen... | 12 |
| Vapor-deposited octadecanethiol ... | 11 |
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