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    退火溫度對真空熱蒸發(fā)法ZnS:In薄膜光電性能的影響

    作者:陳金伙 李文劍 程樹英 福州大學(xué)物理與信息工程學(xué)院 福建福州350108

    摘要:采用真空熱蒸發(fā)工藝,在ITO基片上分別制備ZnS薄膜和In薄膜,在正交實(shí)驗(yàn)條件下,以2%摻雜濃度的In原子摻雜可獲得較高的載流子濃度,在此基礎(chǔ)上,研究了不同退火溫度對ZnS:In薄膜的光、電性能的影響。

    注:因版權(quán)方要求,不能公開全文,如需全文,請咨詢雜志社。

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    現(xiàn)代顯示雜志, 月刊,本刊重視學(xué)術(shù)導(dǎo)向,堅(jiān)持科學(xué)性、學(xué)術(shù)性、先進(jìn)性、創(chuàng)新性,刊載內(nèi)容涉及的欄目:綜述、專題研究、新技術(shù)新產(chǎn)品、工藝與材料、市場分析、顯示信息、行業(yè)動(dòng)態(tài)、公司傳真等。于1994年經(jīng)新聞總署批準(zhǔn)的正規(guī)刊物。

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