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    首頁 > 期刊 > 現(xiàn)代技術(shù)陶瓷 > ZnO壓敏電阻及其片式化技術(shù) 【正文】

    ZnO壓敏電阻及其片式化技術(shù)

    作者:陳濤; 傅邱云; 付振曉 廣東風(fēng)華高新科技股份有限公司; 廣東肇慶526060; 華中科技大學(xué)光學(xué)與電子信息學(xué)院; 武漢430074

    摘要:ZnO壓敏電阻由于具有獨特的非線性I.V特性而在電子電路中得到了廣泛應(yīng)用。隨著電子產(chǎn)品向著小型化、高集成化和數(shù)字化方向發(fā)展,片式ZnO壓敏電阻(ZnOMLVs)應(yīng)用日益廣泛。基于此,本文結(jié)合作者對ZnO壓敏陶瓷還原.再氧化工藝及賤金屬內(nèi)電極的研究,介紹了目前ZnOMLVs的主要材料及工藝研究進(jìn)展,并對片式ZnO壓敏電阻的發(fā)展趨勢提出了一孔之見。

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    現(xiàn)代技術(shù)陶瓷雜志

    現(xiàn)代技術(shù)陶瓷雜志, 雙月刊,本刊重視學(xué)術(shù)導(dǎo)向,堅持科學(xué)性、學(xué)術(shù)性、先進(jìn)性、創(chuàng)新性,刊載內(nèi)容涉及的欄目:科研與探討、綜述與述評、應(yīng)用技術(shù)、科普園地、機(jī)械裝備、信息服務(wù)等。于1993年經(jīng)新聞總署批準(zhǔn)的正規(guī)刊物。

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