摘要：本研究提出基于線性掃頻激勵(lì)洛倫茲力電阻抗成像理論,搭建了基于Verasonics磁聲電導(dǎo)率檢測(cè)平臺(tái),同時(shí)將線性掃頻技術(shù),混頻及B模式掃描算法應(yīng)用于電導(dǎo)率變化區(qū)域界面檢測(cè)中,并對(duì)0.5%NaCl均勻仿體進(jìn)行實(shí)驗(yàn),驗(yàn)證了線性掃頻理論應(yīng)用于本系統(tǒng)的正確性,清晰獲得仿體電導(dǎo)率曲線,測(cè)得均勻仿體電導(dǎo)率B模式掃描圖與超聲B模式圖及實(shí)際測(cè)量值一致,此外,本研究還探討了探頭類型及掃頻時(shí)寬對(duì)成像效果影響。