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  • Ieee Photonics Journal

    • ISSN:1943-0655
    • ESSN:1943-0647
    • 國際標準簡稱:IEEE PHOTONICS J
    • 出版地區(qū):UNITED STATES
    • 出版周期:6 issues/year
    • 研究方向:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC - OPTICS
    • 出版年份:2009
    • 語言:English
    • 是否OA:開放
    • 學科領(lǐng)域

      工程技術(shù)
    • 中科院分區(qū)

      4區(qū)
    • JCR分區(qū)

      Q2
    • IF影響因子

      2.1
    • 是否預警

    期刊簡介

    Journal Title:Ieee Photonics Journal

    Breakthroughs in the generation of light and in its control and utilization have given rise to the field of Photonics, a rapidly expanding area of science and technology with major technological and economic impact. Photonics integrates quantum electronics and optics to accelerate progress in the generation of novel photon sources and in their utilization in emerging applications at the micro and nano scales spanning from the far-infrared/THz to the x-ray region of the electromagnetic spectrum. IEEE Photonics Journal is an online-only journal dedicated to the rapid disclosure of top-quality peer-reviewed research at the forefront of all areas of photonics. Contributions addressing issues ranging from fundamental understanding to emerging technologies and applications are within the scope of the Journal. The Journal includes topics in: Photon sources from far infrared to X-rays, Photonics materials and engineered photonic structures, Integrated optics and optoelectronic, Ultrafast, attosecond, high field and short wavelength photonics, Biophotonics, including DNA photonics, Nanophotonics, Magnetophotonics, Fundamentals of light propagation and interaction; nonlinear effects, Optical data storage, Fiber optics and optical communications devices, systems, and technologies, Micro Opto Electro Mechanical Systems (MOEMS), Microwave photonics, Optical Sensors.

    中文簡介

    光的產(chǎn)生、控制和利用方面的突破催生了光子學領(lǐng)域,這是一個發(fā)展迅速的科學技術(shù)領(lǐng)域,對技術(shù)和經(jīng)濟產(chǎn)生了重大影響。光子學將量子電子學和光學相結(jié)合,以加速新型光子源的產(chǎn)生及其在微觀和納米尺度新興應用中的利用,這些應用范圍從遠紅外/太赫茲到電磁波譜的 x 射線區(qū)域。IEEE 光子學雜志是一本在線期刊,致力于快速披露光子學所有領(lǐng)域最前沿的高質(zhì)量同行評審研究。該期刊涵蓋從基礎(chǔ)理解到新興技術(shù)和應用等各種問題的投稿。該期刊包括以下主題:從遠紅外到 X 射線的光子源、光子材料和工程光子結(jié)構(gòu)、集成光學和光電子、超快、阿秒、高場和短波光子學、生物光子學(包括 DNA 光子學)、納米光子學、磁光子學、光傳播和相互作用的基本原理;非線性效應、光學數(shù)據(jù)存儲、光纖和光通信設(shè)備、系統(tǒng)和技術(shù)、微光機電系統(tǒng) (MOEMS)、微波光子學、光學傳感器。

    期刊點評

    Ieee Photonics Journal創(chuàng)刊于2009年,由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商出版,收稿方向涵蓋ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC - OPTICS全領(lǐng)域,此期刊水平偏中等偏靠后,在所屬細分領(lǐng)域中專業(yè)影響力一般,過審相對較易,如果您文章質(zhì)量佳,選擇此期刊,發(fā)表機率較高。平均審稿速度 約1.0個月 ,影響因子指數(shù)2.1,該期刊近期沒有被列入國際期刊預警名單,廣大學者值得一試。

    中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023年12月升級版)

    大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

    名詞解釋:
    中科院分區(qū)也叫中科院JCR分區(qū),基礎(chǔ)版分為13個大類學科,然后按照各類期刊影響因子分別將每個類別分為四個區(qū),影響因子5%為1區(qū),6%-20%為2區(qū),21%-50%為3區(qū),其余為4區(qū)。

    中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2022年12月升級版)

    大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

    中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月舊的升級版)

    大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

    中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月基礎(chǔ)版)

    大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

    中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月升級版)

    大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

    中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2020年12月舊的升級版)

    大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 3區(qū) OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū)

    WOS分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023-2024年最新版)

    按JIF指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
    學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 192 / 352

    45.6%

    學科:OPTICS SCIE Q2 59 / 119

    50.8%

    學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 109 / 179

    39.4%

    按JCI指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
    學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 184 / 354

    48.16%

    學科:OPTICS SCIE Q3 66 / 120

    45.42%

    學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 95 / 179

    47.21%

    名詞解釋:
    WOS即Web of Science,是全球獲取學術(shù)信息的重要數(shù)據(jù)庫,Web of Science包括自然科學、社會科學、藝術(shù)與人文領(lǐng)域的信息,來自全世界近9,000種最負盛名的高影響力研究期刊及12,000多種學術(shù)會議多學科內(nèi)容。給期刊分區(qū)時會按照某一個學科領(lǐng)域劃分,根據(jù)這一學科所有按照影響因子數(shù)值降序排名,然后平均分成4等份,期刊影響因子值高的就會在高分區(qū)中,最后的劃分結(jié)果分別是Q1,Q2,Q3,Q4,Q1代表質(zhì)量最高。

    CiteScore分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2024年最新版)

    CiteScore SJR SNIP CiteScore排名
    4.5 0.558 0.819
    學科 分區(qū) 排名 百分位
    大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 296 / 797

    62%

    大類:Engineering 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics Q2 92 / 224

    59%

    名詞解釋:
    CiteScore:衡量期刊所發(fā)表文獻的平均受引用次數(shù)。
    SJR:SCImago 期刊等級衡量經(jīng)過加權(quán)后的期刊受引用次數(shù)。引用次數(shù)的加權(quán)值由施引期刊的學科領(lǐng)域和聲望 (SJR) 決定。
    SNIP:每篇文章中來源出版物的標準化影響將實際受引用情況對照期刊所屬學科領(lǐng)域中預期的受引用情況進行衡量。

    其他數(shù)據(jù)

    是否OA開放訪問: h-index: 年文章數(shù):
    開放 59 347
    Gold OA文章占比: 2021-2022最新影響因子(數(shù)據(jù)來源于搜索引擎): 開源占比(OA被引用占比):
    99.32% 2.1 0.99...
    研究類文章占比:文章 ÷(文章 + 綜述) 期刊收錄: 中科院《國際期刊預警名單(試行)》名單:
    100.00% SCIE

    歷年IF值(影響因子):

    歷年引文指標和發(fā)文量:

    歷年中科院JCR大類分區(qū)數(shù)據(jù):

    歷年自引數(shù)據(jù):

    發(fā)文統(tǒng)計

    2023-2024國家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計:

    國家/地區(qū) 數(shù)量
    CHINA MAINLAND 1195
    USA 136
    Taiwan 76
    England 48
    Canada 46
    South Korea 39
    Japan 38
    Saudi Arabia 34
    India 32
    Singapore 30

    2023-2024機構(gòu)發(fā)文量統(tǒng)計:

    機構(gòu) 數(shù)量
    CHINESE ACADEMY OF SCIENCES 176
    HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE &... 102
    BEIJING UNIVERSITY OF POSTS & TE... 64
    SHANGHAI JIAO TONG UNIVERSITY 54
    TIANJIN UNIVERSITY 50
    TSINGHUA UNIVERSITY 50
    BEIJING INSTITUTE OF TECHNOLOGY 46
    NANJING UNIVERSITY 36
    HARBIN INSTITUTE OF TECHNOLOGY 34
    SHENZHEN UNIVERSITY 34

    近年引用統(tǒng)計:

    期刊名稱 數(shù)量
    OPT EXPRESS 2004
    OPT LETT 1125
    J LIGHTWAVE TECHNOL 770
    IEEE PHOTONIC TECH L 601
    IEEE PHOTONICS J 490
    APPL OPTICS 470
    APPL PHYS LETT 455
    PHYS REV LETT 291
    OPT COMMUN 280
    NAT PHOTONICS 243

    近年被引用統(tǒng)計:

    期刊名稱 數(shù)量
    OPT EXPRESS 596
    IEEE PHOTONICS J 490
    OPT COMMUN 423
    IEEE ACCESS 394
    J LIGHTWAVE TECHNOL 338
    APPL OPTICS 252
    OPT LETT 180
    SENSORS-BASEL 156
    OPTIK 153
    APPL SCI-BASEL 149

    近年文章引用統(tǒng)計:

    文章名稱 數(shù)量
    Surface Plasmon Resonance Sensor... 46
    A Dual-Band Tunable Metamaterial... 23
    The LED-ID Detection and Recogni... 22
    A Band Enhanced Plasma Metamater... 21
    Tunable Plasmon Induced Transpar... 20
    Minimizing the Number of Spans f... 19
    Surface Plasmon Resonance Based ... 18
    Hybrid Photonic-Plasmonic Nonblo... 17
    Analysis on Location Accuracy fo... 16
    A Tilt Receiver Correction Metho... 15

    相關(guān)期刊

    同小類學科的其他優(yōu)質(zhì)期刊 影響因子 中科院分區(qū)
    Journal Of Energy Storage 8.9 2區(qū)
    Journal Of Environmental Chemical Engineering 7.4 2區(qū)
    International Journal Of Ventilation 1.1 4區(qū)
    Chemical Engineering Journal 13.3 1區(qū)
    International Journal Of Hydrogen Energy 8.1 2區(qū)
    Electronics 2.6 3區(qū)
    Complexity 1.7 4區(qū)
    Aerospace 2.1 3區(qū)
    Buildings 3.1 3區(qū)
    Separation And Purification Technology 8.1 1區(qū)

    更多問題

    免責聲明

    若用戶需要出版服務(wù),請聯(lián)系出版商:445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。

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