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  • Microelectronic Engineering

    • ISSN:0167-9317
    • ESSN:1873-5568
    • 國際標(biāo)準(zhǔn)簡稱:MICROELECTRON ENG
    • 出版地區(qū):NETHERLANDS
    • 出版周期:Monthly
    • 研究方向:工程技術(shù) - 工程:電子與電氣
    • 出版年份:1983
    • 語言:English
    • 是否OA:未開放
    • 學(xué)科領(lǐng)域

      工程技術(shù)
    • 中科院分區(qū)

      4區(qū)
    • JCR分區(qū)

      Q2
    • IF影響因子

      2.6
    • 是否預(yù)警

    期刊簡介

    Journal Title:Microelectronic Engineering

    Microelectronic Engineering is the premier nanoprocessing, and nanotechnology journal focusing on fabrication of electronic, photonic, bioelectronic, electromechanic and fluidic devices and systems, and their applications in the broad areas of electronics, photonics, energy, life sciences, and environment. It covers also the expanding interdisciplinary field of "more than Moore" and "beyond Moore" integrated nanoelectronics / photonics and micro-/nano-/bio-systems. Through its unique mixture of peer-reviewed articles, reviews, accelerated publications, short and Technical notes, and the latest research news on key developments, Microelectronic Engineering provides comprehensive coverage of this exciting, interdisciplinary and dynamic new field for researchers in academia and professionals in industry.

    中文簡介

    《微電子工程》是首屈一指的納米加工和納米技術(shù)期刊,專注于電子、光子、生物電子、機(jī)電和流體設(shè)備和系統(tǒng)的制造,以及它們在電子、光子學(xué)、能源、生命科學(xué)和環(huán)境等廣泛領(lǐng)域的應(yīng)用。它還涵蓋了不斷擴(kuò)展的跨學(xué)科領(lǐng)域,即“超過摩爾”和“超越摩爾”集成納米電子學(xué)/光子學(xué)和微/納米/生物系統(tǒng)。通過其獨(dú)特的同行評審文章、評論、加速出版物、簡短和技術(shù)說明以及有關(guān)關(guān)鍵發(fā)展的最新研究新聞的混合,《微電子工程》為學(xué)術(shù)界研究人員和行業(yè)專業(yè)人士提供了對這一令人興奮、跨學(xué)科且充滿活力的新領(lǐng)域的全面報道。

    期刊點(diǎn)評

    Microelectronic Engineering創(chuàng)刊于1983年,由Elsevier出版商出版,收稿方向涵蓋工程技術(shù) - 工程:電子與電氣全領(lǐng)域,此期刊水平偏中等偏靠后,在所屬細(xì)分領(lǐng)域中專業(yè)影響力一般,過審相對較易,如果您文章質(zhì)量佳,選擇此期刊,發(fā)表機(jī)率較高。平均審稿速度 約6.0個月 ,影響因子指數(shù)2.6,該期刊近期沒有被列入國際期刊預(yù)警名單,廣大學(xué)者值得一試。

    中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023年12月升級版)

    大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

    名詞解釋:
    中科院分區(qū)也叫中科院JCR分區(qū),基礎(chǔ)版分為13個大類學(xué)科,然后按照各類期刊影響因子分別將每個類別分為四個區(qū),影響因子5%為1區(qū),6%-20%為2區(qū),21%-50%為3區(qū),其余為4區(qū)。

    中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2022年12月升級版)

    大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 3區(qū) OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

    中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月舊的升級版)

    大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 3區(qū) OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

    中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月基礎(chǔ)版)

    大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

    中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月升級版)

    大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 3區(qū) OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

    中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2020年12月舊的升級版)

    大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

    WOS分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023-2024年最新版)

    按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
    學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 157 / 352

    55.5%

    學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 94 / 140

    33.2%

    學(xué)科:OPTICS SCIE Q2 45 / 119

    62.6%

    學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 81 / 179

    55%

    按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
    學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 179 / 354

    49.58%

    學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 74 / 140

    47.5%

    學(xué)科:OPTICS SCIE Q3 64 / 120

    47.08%

    學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 88 / 179

    51.12%

    名詞解釋:
    WOS即Web of Science,是全球獲取學(xué)術(shù)信息的重要數(shù)據(jù)庫,Web of Science包括自然科學(xué)、社會科學(xué)、藝術(shù)與人文領(lǐng)域的信息,來自全世界近9,000種最負(fù)盛名的高影響力研究期刊及12,000多種學(xué)術(shù)會議多學(xué)科內(nèi)容。給期刊分區(qū)時會按照某一個學(xué)科領(lǐng)域劃分,根據(jù)這一學(xué)科所有按照影響因子數(shù)值降序排名,然后平均分成4等份,期刊影響因子值高的就會在高分區(qū)中,最后的劃分結(jié)果分別是Q1,Q2,Q3,Q4,Q1代表質(zhì)量最高。

    CiteScore分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2024年最新版)

    CiteScore SJR SNIP CiteScore排名
    5.3 0.503 0.847
    學(xué)科 分區(qū) 排名 百分位
    大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics Q2 127 / 434

    70%

    大類:Physics and Astronomy 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics Q2 68 / 224

    69%

    大類:Physics and Astronomy 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 242 / 797

    69%

    大類:Physics and Astronomy 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q2 87 / 284

    69%

    大類:Physics and Astronomy 小類:Surfaces, Coatings and Films Q2 42 / 132

    68%

    名詞解釋:
    CiteScore:衡量期刊所發(fā)表文獻(xiàn)的平均受引用次數(shù)。
    SJR:SCImago 期刊等級衡量經(jīng)過加權(quán)后的期刊受引用次數(shù)。引用次數(shù)的加權(quán)值由施引期刊的學(xué)科領(lǐng)域和聲望 (SJR) 決定。
    SNIP:每篇文章中來源出版物的標(biāo)準(zhǔn)化影響將實(shí)際受引用情況對照期刊所屬學(xué)科領(lǐng)域中預(yù)期的受引用情況進(jìn)行衡量。

    其他數(shù)據(jù)

    是否OA開放訪問: h-index: 年文章數(shù):
    未開放 89 100
    Gold OA文章占比: 2021-2022最新影響因子(數(shù)據(jù)來源于搜索引擎): 開源占比(OA被引用占比):
    15.94% 2.6 0.03...
    研究類文章占比:文章 ÷(文章 + 綜述) 期刊收錄: 中科院《國際期刊預(yù)警名單(試行)》名單:
    91.00% SCIE

    歷年IF值(影響因子):

    歷年引文指標(biāo)和發(fā)文量:

    歷年中科院JCR大類分區(qū)數(shù)據(jù):

    歷年自引數(shù)據(jù):

    發(fā)文統(tǒng)計

    2023-2024國家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計:

    國家/地區(qū) 數(shù)量
    CHINA MAINLAND 104
    South Korea 80
    France 56
    USA 47
    Japan 45
    GERMANY (FED REP GER) 41
    India 36
    Taiwan 31
    Greece 27
    Italy 27

    2023-2024機(jī)構(gòu)發(fā)文量統(tǒng)計:

    機(jī)構(gòu) 數(shù)量
    CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE ... 38
    CEA 22
    COMMUNAUTE UNIVERSITE GRENOBLE A... 18
    CHINESE ACADEMY OF SCIENCES 15
    FUDAN UNIVERSITY 14
    TECHNICAL UNIVERSITY OF DENMARK 13
    AUTONOMOUS UNIVERSITY OF BARCELO... 12
    CONSIGLIO NAZIONALE DELLE RICERC... 12
    NATIONAL CENTRE OF SCIENTIFIC RE... 12
    CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIO... 10

    近年引用統(tǒng)計:

    期刊名稱 數(shù)量
    MICROELECTRON ENG 365
    APPL PHYS LETT 348
    J APPL PHYS 170
    IEEE T ELECTRON DEV 165
    LAB CHIP 157
    IEEE ELECTR DEVICE L 115
    SCI REP-UK 106
    OPT EXPRESS 103
    ADV MATER 96
    J ELECTROCHEM SOC 95

    近年被引用統(tǒng)計:

    期刊名稱 數(shù)量
    MICROELECTRON ENG 365
    ECS J SOLID STATE SC 204
    MICROMACHINES-BASEL 153
    JPN J APPL PHYS 148
    MATER RES EXPRESS 130
    APPL SURF SCI 127
    J MATER SCI-MATER EL 127
    ACS APPL MATER INTER 114
    MATERIALS 94
    IEEE T ELECTRON DEV 93

    近年文章引用統(tǒng)計:

    文章名稱 數(shù)量
    Beyond the lateral flow assay: A... 40
    3D printed microfluidics and mic... 36
    Brain-inspired computing with re... 36
    Emerging trends in wide band gap... 32
    Focused electron beam induced de... 29
    Micropumps and biomedical applic... 25
    Conduction mechanisms, dynamics ... 17
    Beyond 100 nm resolution in 3D l... 17
    Microfluidic platforms for cell ... 17
    Using block copolymers as infilt... 11

    相關(guān)期刊

    同小類學(xué)科的其他優(yōu)質(zhì)期刊 影響因子 中科院分區(qū)
    Journal Of Energy Storage 8.9 2區(qū)
    Journal Of Environmental Chemical Engineering 7.4 2區(qū)
    International Journal Of Ventilation 1.1 4區(qū)
    Chemical Engineering Journal 13.3 1區(qū)
    International Journal Of Hydrogen Energy 8.1 2區(qū)
    Electronics 2.6 3區(qū)
    Complexity 1.7 4區(qū)
    Aerospace 2.1 3區(qū)
    Buildings 3.1 3區(qū)
    Separation And Purification Technology 8.1 1區(qū)

    更多問題

    免責(zé)聲明

    若用戶需要出版服務(wù),請聯(lián)系出版商:ELSEVIER SCIENCE BV, PO BOX 211, AMSTERDAM, NETHERLANDS, 1000 AE。

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