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    退火溫度對(duì)溶膠-凝膠法制備的AZO薄膜性能影響的研究

    作者:趙婷婷; 薛劍鳴; 王威; 郝凌云; 陳相均; 張昕曜; 支國(guó)偉 金陵科技學(xué)院; 材料工程學(xué)院; 南京211169; 南京科潤(rùn)工業(yè)介質(zhì)股份有限公司; 南京211106

    摘要:以溶膠-凝膠法制備Al摻雜的ZnO(AZO)薄膜。為了提高薄膜的結(jié)晶性,在氬氣氣氛中將所制備的薄膜分別在400℃、500℃和550℃溫度下退火處理,研究不同退火溫度對(duì)薄膜樣品形貌和性能的影響。結(jié)果表明,所制備的AZO薄膜為六角纖鋅礦結(jié)構(gòu),有很明顯的c軸擇優(yōu)取向;隨著退火溫度增加,薄膜的結(jié)晶性與電導(dǎo)率均先增加后減小,其在可見(jiàn)光區(qū)域的平均透過(guò)率約為85%。當(dāng)退火溫度為500℃時(shí),制備的AZO薄膜性能最佳,其品質(zhì)因素可以達(dá)到2051.04Ω^-1·cm^-1。

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    電子器件雜志

    電子器件雜志, 雙月刊,本刊重視學(xué)術(shù)導(dǎo)向,堅(jiān)持科學(xué)性、學(xué)術(shù)性、先進(jìn)性、創(chuàng)新性,刊載內(nèi)容涉及的欄目:真空電子學(xué)、微波電子學(xué)、光電子學(xué)、電子顯示技術(shù)、激光與紅外技術(shù)、半導(dǎo)體物理與器件、集成電路與微電子技術(shù)、光纖技術(shù)等。于1978年經(jīng)新聞總署批準(zhǔn)的正規(guī)刊物。

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